ඔක්සි ඇසිටිලීන් දැල්ල
පීඩනය යටතේ ධමනි නළයකට ගමන් කරවනු ලබන ඔක්සිජන් හා ඇසිටිලීන් මිශ්රණයක් පිලිස්සීමෙන් ඇතිවන ගිනි සිළුව ඔක්සි ඇසිටිලීන් දැල්ල යනුවෙන් හඳුන්වනු ලැබේ. සුදුසු අනුපාතයකින් ඔක්සිජන් හා ඇසිටිලීන් මිශ්ර කොට දැල් වූ විට බොහෝ ලෝහවල ද්රවාංකයට වඩා ඉහළ උෂ්ණත්වයකින් යුතු දැල්ලක් ලැබෙන බවත්, ලෝහ වෙල්ඩිං කිරීම සඳහා එය යොදාගත හැකි විය යුතු බවත් 1895 දී පමණ ප්රංස ජාතික විද්යාඥයකු වූ ආංරි ලුවී ලෙෂතලියර් (Henri Louis Lechatelier) විසින් පෙන්වා දෙන ලදි. එහෙත් වෙල්ඩිං කිරීම (බ.) සඳහා මෙම දැල්ල ප්රායෝගිකව යොදාගනු ලැබුයේ මෙම දැල්ලේ උෂ්ණත්වයට ඔරොත්තු දිය හැකි ලෝහ මිශ්රණයක් 1903 දී තනාගැනීමෙන් පසුවයි.
මෙම දැල්ල සම්පූර්ණයෙන් ම වාගේ සමන්විත වනුයේ හයිඩ්රජන් කංචුකයකින් වට වූ කාබන්ඩයොක්සයිඩ් වායුවෙනි. දැල්ලේ දීප්තිය රඳා පවත්නේ ඇසිටිලීන් වියෝජනය වීමෙන් කාබන් අංශු විශාල වශයෙන් දැල්ල තුළ දී නිදහස් වීම මතය. මෙම කාබන් අංශු වාතය සමඟ ස්පර්ශවීමක් නොමැති නිසා එක විට ම පිලිස්සී නොයයි. එහෙත් දැල්ලේ අධික තාපයෙන් ඒ දිලිසේ. සෑහෙන පමණ ඔක්සිජන් දැල්ලට ඇතුළු කළ විට මෙම කාබන් අංශු දැවීමෙන් දැල්ලේ දීප්තිය අඩු වේ. එහෙත් දැල්ලේ උෂ්ණත්වය වර්ධනය වේ. වායු මිශ්රණයේ ඇති ඇසිටිලීන් සම්පූර්ණයෙන් ම දහනය කිරීමට තරම් ප්රමාණවත් වන ඔක්සිජන් ප්රමාණයක් ඇත් නම් එවිට ලැබෙන දැල්ල උදාසීන එකකැයි කියනු ලැබේ. ලෝහ වෙඩිං කිරීමේ දී උදාසීන දැල්ල යොදාගනිත්. වැඩිපුර ඔක්සිජන් ප්රමාණයකින් මිශ්රණය පෝෂණය වී ඇත්නම් දැල්ලේ කෙටි, පැහැදිලි, අභ්යන්තර කේතුවක් ඇති වේ. දැල්ල ලා දම්පැහැයක් ගනී. වැඩිපුර ප්රමාණයක් ඇසිටිලීන් ඇති විට දැල්ලේ අධික දීප්තිය නිසා අභ්යන්තර කේතුව පැහැදිලිව නොපෙනේ.
කාර්මික කටයුතු සඳහා අවශ්ය ඔක්සි ඇසිටිලීන් දැල්ල නිපැදවීම සඳහා වර්ග අඟලට රාත්තල් 2,000ක පමණ පීඩනය යටතේ ඇති ඔක්සිජන් ද, පීඩනය යටතේ ඇති ඇසිටිලීන් ද යොදාගනු ලැබේ. අධික පීඩනය යටතේ ගබඩා කර ඇති විට ඇසිටිලීන් ස්ඵෝටනය වන නිසා වර්ග අඟලට රාත්තල් 250ක පමණ පීඩනය යටතේ ඇසිටිලීන් ඇසිටෝන්වල ද්රවණය කොට තබනු ලැබේ. ගබඩා ටැංකිවල හිස් අවකාශයේ ඇති ඇසිටිලීන් ස්ඵෝටනය වීම වැළැක්වීම සඳහා ඇසිටිලීන් ගබඩා කරනු ලබන සිලින්ඩර අඟුරු, ඇස්බෙස්ටොස් හෝ පුළුන් වැනි ද්රව්යයකින් පුරවනු ලැබේ.
වෙල්ඩිං කිරීමට ද, ලෝහ කැපීමට ද කාර්මික ව්යාපාරවල ඔක්සි ඇසිටිලීන් දැල්ල බෙහෙවින් යොදනු ලැබේ. ලෝහ කැපීම කරනු ලබන්නේ ලෝහය මත වූ කුඩා ක්ෂේත්රයක් දැල්ල මගින් රත් කොට පසුව සහායක කපාටයක් මගින් අමතර ඔක්සිජන් ධාරාවක් රත් වූ ස්ථානය මත යෙදීමෙනි. මෙහි දී ලෝහය ඔක්සිකරණය වේ.
(සංස්කරණය: 1974)